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商品编号：89254

芬兰 PICOSUN 原子层沉积机

价格：询价

产地：更新时间：2021-01-19 15:36

品牌：型号：R-200 标准型

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芬兰 PICOSUN R-200标准型ALD

详细介绍

PICOSUN™ R-200标准型ALD

技术参数

。衬底尺寸和类型 50-200 mm /单片
。156 mm x 156 mm太阳能硅片
。3D 复杂表面衬底
。粉末与颗粒
。多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品
。工艺温度：50 - 500 °C , 可选更高温度
。基片传送选件：气动升降（手动装载），预真空室安装磁力操作机械手（Load lock ）
。前驱体液态、固态、气态、臭氧源，4根独立源管线，*多加载6个前驱体源
。重量：350 kg
。尺寸： (W x H x D) 取决于选件
-*小146 cm x 146 cm x 84 cm
-189 cm x 206 cm x 111 cm
。选件：PICOFLOW™扩散增强器，集成椭偏仪，QCM， RGA，N2 发生器，尾气处理器，定制设计，手套箱集成（用于惰性气体下装载）
。验收标准：标准设备验收标准为 Al2O3工艺

PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性，包括*具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。

我们为液体、气体和固体化学物提供的更高***的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度*小的薄膜层。在*基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的，完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。

芬兰 PICOSUN 原子层沉积机

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产品特点

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