GEMStar XT 产品特点：

* 300℃ 铝合金热壁，对流式温度控制

* 175℃温控150ml前驱体瓶，200℃温控输运支管

* 可容纳多片4，6，8英寸样品同时沉积

* 可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体

* 标准CF-40接口

* 可安装原位测量或粉末沉积模块等选件

* 等离子体辅助ALD插件

* 多种配件可供选择

GEMStar XT 产品型号：

GEMStar XT：

* 8英寸/200 mm基片沉积（4＇和6＇ 可选）

* 单/双路前驱体输运支管， 4/8路前驱体瓶接口

* 不可升***为等离子体增强ALD

GEMStar XT-R：

* 8英寸(200mm)基片沉积（4＇和6＇ 可选）

* 单/双路前驱体输运支管， 4/8路前驱体瓶和CF-40接口

* 可升***为等离子体增强ALD

GEMStar XT-P：

* 8英寸/200mm基片沉积（4＇和6 ＇可选）

* 单/双路前驱体输运支管， 4/8路前驱体瓶和CF-40接口

* 装备高性能ICP等离子发生器

  13.56 MHz 的等离子源非常紧凑，只需风冷，运行功率达300W。

* 标配3组气流质量控制计（MFC）控制的等离子气源线，和***条MFC控制的运载气体线，使难以沉积的氧化物、氮化物、金属也可以实现均匀沉积。

* 100 mm 立方体样品 沉积

* 单路前驱体输运支管， 2路前驱体瓶接口

* 主要用于3D多孔材料，以及厚样品的沉积

丰富配件：

多样品托盘：

* 多样品夹具，样品尺寸（8", 6", 4"）向下兼容。

* 多基片夹具，*多同时容纳9片基片。

温控热托盘：

* 可加热样品托盘，温度500℃，可实现热盘-热壁复合加热方式。

粉末沉积盘：

臭氧发生器：

粉末旋转沉积罐模块：

配合热壁加热方式，进***步实现对微纳粉末样品全保型薄膜均匀沉积包覆。

手套箱接口：

可从侧面或背面完美接入手套箱，与从底部接入手套箱不同，不占用手套箱空间。由于主机在手套箱侧面，反应过程中不对手套箱有加热效应，不影响手套箱内温度。