| EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟EBPG5200***样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。
00001. 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换 00002. 155mm的平台 00003. *小曝光特征尺寸小于8nm 00004. 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器 00005. 在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，可以到1mm 00006. GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境 00007. 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求 可选的系统增强升*** EBPG5150可以选择不同的升***选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常、高自动化的电子束光刻系统。 EBPG5150 应用 ·  电子束曝光用于制作GaAs T型器件 ·  微盘谐振器 ·  开口环谐振器 EBPG5150 产品详情 | 主要应用： · 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构 · 高速电子束直写 · 批量生产，如化合物半导体器件 · 防伪标识 | 电子光学柱技术： · EBPG · 电子束 · 100 kV
| 样品台： · 覆盖完整6英寸硅片大小 · 标配2工位自动化上料
(10工位可选) | | 
沪公网安备31011502016460号
