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德国Raith Voyager 新一代超高分辨率电子束光刻机

价  格:询价

产  地:更新时间:2021-01-19 15:36

品  牌:型  号:

状  态:正常点击量:2115

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上海非利加实业有限公司

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德***Raith Voyager 新***代超高分辨率电子束光刻机
编号:Raith
功率:
芯片数量:
详细介绍

  Voyager 新***代电子束光刻系统

高速且价格合理的电子束光刻机实现精确的曝光效果

对于工业界和学术界所有关注速度和高分辨的电子束曝光应用,我们推荐您选择VOYAGERTM这款专业电子束光刻系统。

Raith非常重视这款具有吸引力的在使用寿命期间具有高性价比、新开发的、创新的eWRITE体系结构。

系统的硬件和软件被***致设计为自动曝光操作,的高性能图形发生器和电子光学系统优化设计并协同***致。

系统可实现8英寸样品的高速曝光。系统的稳定性是非常关键的指标,可保证大面积均匀曝光。该系统外部采用环境屏蔽罩,即使在稍差的实验室环境下,仍然能确保系统具有非常好的热稳定性,提高系统对外界环境的容忍度。

超高分辨率曝光系统

00001. 从*初设计到样品制备完成,实现高速样品加工,提高产量

00002. 智能设计:设备占地面积小,且集成环境屏蔽罩

00003. 创新的、未来安全型系统架构

00004. 专业的电子束曝光系统,可实现每小时1cm2的高速曝光,高性价比

eWrite技术

Raith新推出的eWrite技术结合了专业电子束光刻的光学系统和创新的图形发生器设计,该技术适用于研发及批量生产的所有工作。

VOYAGER 应用

· HSQ胶上制作亚7nm线条

 

· SU8胶上制作 1x1 cm² 菲涅尔透镜,曝光时间为53分钟,图为菲涅尔透镜中心区域

· PMMA双层胶上制作150nm T型栅结构

· ZEP520胶上制作 1x1 cm²光栅结构,曝光时间小于2小时

· 高速度模式(40nA束电流下曝光160um大结构)和高分辨模式(0.4nA束电流下曝光10nm细小结构)自动切换

· ZEP520胶上制作光子晶体波导结构

VOYAGER 产品详情

主要应用:

· 高速直写

· 衍射光学元件

· 防伪元件

· 批量加工化合物半导体器件

 

样品台:

· 6“ 移动范围

· Z方向移动范围大

 

电子枪技术:

· eWrite

· 电子

· 50 kV

 

 

独特直写模式:

· traxx 长线条无写场拼接曝光模式

· periodixx周期结构无写场拼接曝光模式

 

 

 


 

产品参数


产品介绍



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