美***: 那诺-马斯特 Nano-master

ALD/PEALD原子层沉积机
           
           
           

Nano-master  NLD-4000 是***款独立式计算机控制的ALD系统，全自动工艺控制并包含完整的安全连锁功能，能够沉积半导体应用中的氧化物和氮化物（比如AlN, GaN, TaN, TiN, Al2O3, ZrO2, LaO2, HfO2），支持太阳能和MEMS等众多领域的应用。
            
           系统包含***个13”的铝质反应腔体，具有加热腔壁和气动升降顶盖，可***键式实现顶盖的开启/闭合，便于放取片。随系统配套手套箱，可以支持*多七路加热或冷却的50cc容器用于前驱体或者反应物，并集成了快速脉冲传输阀用于气体脉冲输出。没有反应掉的前驱体将被加热过滤器所捕捉，该过滤器安装在腔体排风口。
            
           工艺程序、温度设定值、气体流量、抽真空卸真空工序，以及传输管路的吹扫均通过LabView软件全自动控制。
            
           选配项包含自动上下片（系统占地面积不变）、远程平面ICP等离子源用于等离子增强ALD（平面ICP的构造确保小的反应腔体容积，这实现更快的循环时间），以及涡轮分子泵用于更低的极限真空。

产品特点：
           

**低于1Å的均匀度
           **  优化的13”阳极氧化铝腔体
           **  小反应腔体容积确保快速的循环时间并提高产能
           **  可支持8”的基片
           **  400°C基片加热器
           **  随系统配套前驱体手套箱
           **  做多支持七路50cc前驱体容器
           **  300L/Sec抽速的磁悬浮分子泵组
           **  极限真空可达5x10-7Torr
           **  快速脉冲气体传输阀
           **  大面积过滤器用于捕捉未反应的前驱体
           **  高深宽比结构的涂覆
           **  全自动计算机控制，菜单驱动
           **  LabVIEW友好用户界面
           **  EMO和安全互锁
           **  占地面积仅24”x44”带封闭面板的柜体对超净间很理想

           选配:

**  下游式平面ICP远程等离子源用于PE-ALD工艺
           **  RF离子源用于无需要求超高密度的PE-ALD工艺
           **  自动上下片
           **  增加额外的前驱体

           产品应用:  

**  高K介质
           **  疏水性涂覆
           **  钝化层
           **  高深宽比扩散阻挡层的铜连接
           **  微流控应用的保形性涂覆
           **  燃料电池中诸如催化层的单金属涂覆