基本功能

1，针对微小区域测试单、多层透光薄膜的厚度、折射率以及吸收系数

2，实现薄膜均匀性检测

3，宽光谱范围同时有效满足材料分析、探测等应用

产品特点

l  强大的数据运算处理功能及材料NK数据库；

l  简便、易行的可视化测试界面，可根据用户需求设置不同的参数；

l  实现微小区域薄膜分析研究；

l  快捷、准确、稳定的参数测试；

l  支持多功能配件集成以及定制；

l  支持不同水平的用户控制模式；

l  支持多功能模拟计算等等。

系统配置

型号：MSP500RTMF

双探测器系统：2048像素的CCD阵列用于UV-Vis，InGaAs阵列用于NIR

光源：高功率的DUV和可见光光源

自动的台架平台：特殊处理的铝合金操作平台，手动调节移动范围为100mm×75mm

焦距：螺杆控制的自动调焦

物镜有着长焦点距离:4×、10×、15× 、50×(包括***个DUV物镜)通讯接口：USB的通讯接口与计算机相连

软件：带有全自动成像功能和2D/3D图形输出的TFProbe 2.2VM版本的软件。

测量类型：反射/透射光谱、薄膜厚度/反射光谱和特性尺寸

计算机硬件：英特儿酷睿2双核处理器，19”LCD显示器

电源：110–240V AC/50-60Hz，3A

尺寸：16’x16’x18’ (操作桌面设置)

重量：120磅总重      保修：***年的整机及零备件保修

规格

波长范围：250nm到1700 nm

波长分辨率: 1nm

光斑尺寸：100µm (4x), 40µm (10x), 30µm (15x), 8µm (50x)

基片尺寸：*多可至20mm

测量厚度范围: 20Å 到25 µm

测量时间：*快2毫秒

精确度*：优于0.5％（通过使用相同的光学常数，让椭偏仪的结果与热氧化物样品相比较）

重复性误差*：小于2 Ǻ

可选配件项

l  波长可扩展到远DUV或者长NIR范围(～2500nm）

l  可根据客户的特殊需求来定制

l  在动态实验研究时，可根据需要对平台进行加热或致冷

l  可选择的平台尺寸*多可测量300mm大小尺寸的样品

l  更高的波长范围的分辨率可低至0.1nm

l  各种滤光片可供各种特殊的需求

l  可添加应用于荧光测量的附件

l  可添加用于拉曼应用的附件

l  可添加用于偏光应用的附件

应用领域

主要应用于透光薄膜分析类领域：

l  玻璃镀膜领域（LowE、太阳能…）

l  半导体制造（PR，Oxide, Nitride…)

l  液晶显示（ITO，PR，Cell gap...）

l  光学涂层，TiO2, SiO2, Ta2O5... ..

l  半导体化合物

l  在MEMS/MOEMS系统上的功能性薄膜

l  非晶体，纳米材料和结晶硅