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原子层沉积系统PICOSUN™- R系列

价  格:询价

产  地:芬兰更新时间:2020-10-29 14:01

品  牌:Picosun型  号:PICOSUN™- R系列

状  态:正常点击量:1207

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科研领域:原子层沉积系统PICOSUN?- R系列高水平的研究和开发需要***好的设备。Picosun ALD是全球ALD设备的***。PICOSUN? R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性,包括***具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高***的,易更换的前驱源系统,能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度***小的薄膜层。在***基本的PICOSUN? R系列配置中可以选择多个独立的,完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN? R系列独特的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN? P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN?反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中,就会吸引到企业投资。



产品参数

PICOSUN?ALD  R-200 Advanced高级型 技术参数:(其他R系列技术参数请参考HONOPROF网站)

衬底尺寸和类型50-200 mm /单片
156 mm x 156 mm太阳能硅片
3D复杂表面衬底
粉末与颗粒
Roll-to-roll , 衬底最大宽 70 mm
多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品
工艺温度50 - 500 °C , 可选更高温度
基片传送选件气动升降(手动装载)
预真空室安装磁力操作机械手(Load lock )
半自动装载,用PICOPLATFORM?200集群系统实现
25片晶圆盒对盒式全自动装载(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM?200集群系统实现
前驱体液态、固态、气态、臭氧源、等离子体(最多4路气体)
6根独立源管线,最多加载12个前驱体源(加上Plasma管路,共7根独立源管线)
重量350 + 200 kg
尺寸(W*H*D)取决于选件
最小 146 cm x 146 cm x 84 cm
最大 189 cm x 206 cm x 111 cm
选件集群工具,PICOFLOW? 扩散增强器,集成椭偏仪,QCM,RGA,超高真空兼容,N2发生器,尾气处理器,定制设计,手套箱集成(用于惰性气体下装载)
验收标准标准设备验收标准为 Al2O3工艺



产品介绍

科研领域:原子层沉积系统PICOSUN?- R系列高水平的研究和开发需要***好的设备。Picosun ALD是全球ALD设备的***。PICOSUN? R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性,包括***具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高***的,易更换的前驱源系统,能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度***小的薄膜层。在***基本的PICOSUN? R系列配置中可以选择多个独立的,完全分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN? R系列独特的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN? P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN?反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中,就会吸引到企业投资。





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